第112章 接近式光刻机 (4-2)

“几位都去过国外参观考察吧？”

张勇存三人都纷纷点头。

张勇存说：“咱们1972年跟脚盆关系正常化之后，我们组织去过脚盆进行考察。”

“真就如浩然同志说的，我们发现，脚盆的工厂跟我们的完全不一样，他们的车间内有很多都是流水线作业，自动化程度高，效率也很高。”

王浩然说道：“其实我们只要对我们的生产设备进行改造，我们很快就可以赶上对方。”

“但关键一点，还是在芯片这一块啊！”

“所以，我们必须得先把芯片的问题给解决了。”

张勇存点点头说道：“今天晚上听浩然同志一席话，我真的是茅塞顿开啊！”

“没得说，您需要咱们提供什么样的支持，尽管说就是！”

“咱们一定全力配合！”

王浩然微笑着表示了感谢。

当晚，王浩然就在742厂的招待所住下。

次日早上，张勇存亲自过来陪王浩然一块儿吃早点。

早饭吃完之后，王浩然终于有机会前往742厂的车间参观。

其实也不是专门的参观，而是王浩然要用8086的掩膜版生产处理器芯片的样品。

王浩然进到车间一看，他内心叹了口气：呈现在眼前的压根不是现代化的生产车间，倒像个机械作坊。

设备也都很落后，基本上都是靠熟练工人的经验手感生产。

这种生产模式不是一般的落后啊。

而且，现在的硅片也只有3英寸，算是很小的尺寸了。

可如今在蜥方，主流芯片生产企业已经普遍在使用8寸的硅片了。

硅片尺寸越大，成本效益就越高，毕竟，大硅片意味着可以生产更多的芯片，还可减少生产过程中的废料率。

“浩然同志，这就是咱们自己研发的曝光机。”张勇存特别给王浩然介绍国产的光刻机设备。

那只是个很简陋的工作台，一看便知需要工作人员依靠自己的经验进行大量的操作。

而且，这光刻机还是硬接触式的。

所谓硬接触式光刻机，是指掩膜版跟晶圆上的光刻胶直接接触，紧贴晶圆，中间没有任何间隙。

这就会导致光刻胶污染掩膜版，而掩膜版被污染之后，那基本上就报废了，勉强使用，生产出来的全都是废品。

王浩然说：“张厂长，我现在终于明白为啥咱们良品率那么低了啊。”

“硬接触式的光刻机生产效率太低，而且，容易出废品。”

张勇存叹了口气说道：“您说得对。”

“咱们也一直想要改进呢，但是，目前还没有什么进展。”王浩然想了一下，说道：“张厂长要是相信我，我或者可以把这台光刻机给改进一下。”

“也许只需要一个很小的改进，它就能大幅度提升良品率了。”

王浩然这里嘴上说的只是个小的改进，其实吧，真要改动起来，是需要大动干戈的。

王浩然想要把接触式的光刻机改成接近式光刻机。

所谓接近式光刻机，掩膜版与晶圆之间并不真正接触，而是有了一个非常小的距离。

这个距离只有几个微米，这就可以使得掩膜版和硅片不会直接接触，进而降低了损坏的风险。

王浩然将自己的想法这么一说，张勇存还没说啥呢，刘中友和吴极都是大摇其头。

刘中友说：“浩然同志啊，那么小的距离，人工是没办法操作的。”

“除非设计一个精巧的机械装置。”

“但要设计这样一个机械装置，很难。”

吴极也说：“这个设想，咱们也有过，不过，因为无法实现，就最终放弃了。”

张勇存笑道：“吴工，刘工，伱俩也别先忙着否定，好不好？”

“浩然同志既然都这么说了，那没准他就有办法解决。”

吴极抓了抓自己的头发，有点儿不好意思地说：“我忘了浩然同志比咱们聪明太多这茬儿。”

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