想买,而且买好的,绕不开他们。当然有些设备也可以去找小日子的尼康、dns、日立高新去买。
其中,国人最熟悉的莫过于光刻机和其主要生产商asml。
光刻机的作用说的简单点,就是通过一系列的手段,将线路图成比例缩小后照射到硅片上,然后显影,最终得到在硅片上的电路图。
经过一次光刻的芯片可以继续涂胶、曝光。越复杂的芯片,线路图的层数越多,也需要更精密的曝光控制过程。
后来华为的那张麒麟9000s,就是用了多重曝光的技术。
其中多重曝光技术早就有了,不过被认为没什么价值,因为可以通过其他方式做到更精密的芯片。
也只有华为被逼的没办法,使用这一技术,并且有重大突破。
毕竟,多重曝光良率很难保证,良率无法保证,成本就上来了。光刻机绕不开asml,其在世界同类产品中有80%的市占率。
关键吧,asml有一个非常奇特的规定,那就是只有投资asml,才能够获得优先供货权。这样奇特的合作模式使得asml获得了大量的资金,包括英特尔、三星、台积电、海力士都在asml中有相当可观的股份,可以说大半个半导体行业都是asml一家的合作伙伴,形成了庞大的利益共同体。
抱歉的是,没中国企业什么事儿。
所以你就知道了吧,这本身就是一场中国vs全球企业的竞赛。
euv光刻机里面有十万个零件,被称为工业皇冠上的明珠,30多个国家5000多个行业顶级厂商共同完成,技术要求非常高,也只有asml能造。这也不难理解,为什么我们能造出原子弹,却迟迟造不出euv光刻机了,没技术没零件,全都要自己研究。
一台先进的euv光刻机,平均需要1.5亿美元一台,运费就要10亿,重达180吨,各种零部件就需要40个集装箱运输。
组装调试就需要一年时间,组装完成后有两辆公交车长。
即便如此,安装调试费用也需要上亿,关键你还买不到货……
你想买人家还不卖!!!
最恶心的是……
陈平江纵然知道历史,但是第一代euv商用也要等到2016年,在此之前他只能用duv。
duv光刻机在制程上基本上只能做到25纳米,即使通过一些先进的技术手段,如intel的双工作台模式,也只能达到10纳米的制程,但难以突破这一极限。
euv光刻机能够支持更先进的制程技术,如7纳米、5纳米甚至3纳米。
duv光刻机主要利用光的折射原理,通过透镜和光学器件对紫外光进行聚焦和定位。euv光刻机则利用光的反射原理,使用反射镜而不是折射镜来传递光束。
相比之下,duv光刻机在技术和成本上相对成熟和稳定,能够满足大多数芯片制造的需求。尤其是在一些对制程要求不太苛刻的应用领域,如存储器、模拟芯片等。
不过,陈平江手里还有一张王牌。
只要点拨一下梁孟松,让他带头搞出来四重曝光技术。
那么同样可以用duv来制造14纳米甚至7纳米的芯片。
这张牌才是陈平江手里的大王,更是他敢做芯片的底气。
2011年这个时间节点,最先进的也不过22纳米。
算上华芯晶圆厂投产的时间,如果全力研发14纳米,那一旦等到研发成功的那一天,也就是华芯跻身世界一流晶圆厂的那天。
…………
就在陈平江忙着筹备晶圆厂的时候。
东江政府那边有些坐不住了。
圈子就这么大,不知道从哪里传出来的消息,陈平江最终决定将晶圆厂放在了沪上。
这下子可把东江方面急死了。
沪上,你们怎么敢!?
怎么敢抢我们到嘴的鸭子!
好家伙,这下子东江从上到下乱成了一锅粥,据说大大小小的会开了十几次,其中还包括市里的常委会。
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