14、 集全国之力，拉开光刻技术角逐战 (2-2)

很显然。

杨玄现在是被赶鸭子架，带自己来的陈新龙，这时候也已经化作小迷弟，远远坐在角落里，等待着听课。

得！

反正是到了这一步，再退缩也没意义。

杨玄深吸了口气，决定凭借自己对未来十五年的所知所见，进行一番大胆的开讲。

“诸位前辈，在讲解之前，我先说一下，目前，世界掌握高端光刻技术的几家机构。”

“传统型光刻技术，已经不具备市场优势……”

“2002年DUV技术在干法ArF后期演化成2条主要进化方向……”

“其一是用157nm的F2的准分子光源取代193nm的ArF光源。该方法较浸没式ArF更为保守，代表厂商是尼康和佳能。”

“其二，采用台积电林本坚的方案，依然使用193nm的ArF光源，但是将镜头和光刻胶之间的介质由空气改成液体。”

“193nm的光经过折射后，等效波长为134nm，从而实现比F2光源更高的分辨率。”

“浸没式ArF的代表厂商是ASML和湾湾积体电路。由于F2光源无法穿透水，因此无法和浸没式技术相结合，进一步提升分辨率。ArF湿法在光刻精度胜于F2。”

“以ArF浸没式为切入点，ASML成为DUV时代龙头。”

“2002年湾积电林本坚提出ArF浸没式方案，随后ASML在2003年成功推出第一台浸没式光刻样机。”

“尼康将也在明年会顺利推出ArF浸没式光刻机，但市场先机早已被ASML夺走。”

“伴随着ASML和湾湾积体电路ArF浸没式技术的成功，ASML和台积电实现了双赢。”

“在光刻机领域，ASML开始奋起反超尼康；湾积电也成为第一家实现ArF浸没式量产的公司。”

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