447 完美的闭环 (2-1)

等林本建出来，三人边吃边聊，卫向东正式向林本建发出邀请，希望他到大陆继续研究紫外光euv光刻，将来在众芯科技专门成立一个部门由他负责，同样可以给予众芯科技的股份。

“林先生，如果你还有什么要求，我们都可以谈。”卫向东的态度很诚恳。

林本建沉默了下开口说道：“卫先生，或许你不清楚，研发13.4纳米的极紫外光euv遥不可及而且耗费巨大，现在光刻机还卡在193纳米这个这个阶段。”

“我知道，极紫外光euv是光刻机发展的未来，而193纳米这道坎终将会被迈过。”卫向东笑回答道。

林本建听了笑了起来：“卫先生，你是个局外人，竟然比我们这些局内人还充满自信？”

“或许正是因为我是个局外人，所以和你看问题角度不同，光刻机停留在193纳米已经好几年了吧？所谓厚积薄发该到突破的时候。不是有一种叫什么浸润式光刻吗？我看那个法子就行。”卫向东说道。

“浸润式光刻？卫先生你也认为浸润式可行？！”林本建的声音突然变得激动起来。

不是我认为行，是因为历史最后证明这个法子行！

卫向东实在不明白这个林本建为何如此激动，旁边的张如京才告诉他，在80年代末期，林本建就提出随着芯片精度越来越高，光刻机的精度最终会遇到瓶颈，可以用浸润式原理解决这个问题。

不过当时业界正要准备1000 纳米的量产，后来林本建又帮ibm解决两个世代以后的技术，也就是500纳米；那时还有很多方法可用，不需要浸润式这种颇为复杂的办法。

直到九十年代初期，光刻机的研发卡到了193纳米，包括ibm、佳能等大型公司，都是朝着研发干式157nm光刻机的道路奋力前进，根本没有理睬到林本建的这个冷门的浸润式！这让他很是沮丧。

所以，今天从一个外行嘴里说出看好浸润时，林本建感到有些激动。

“卫先生，你怎么认为浸润式办法可行，如何液体穿透率不高问题？”

面对林本建急切的发问，卫向东愣住了。

我懂个屁啊......

我只不过是穿越前在网上无聊时候看过一些这样的文章，知道几个术语而已何况又过去了这么多年？

哎.....

早知道做做功课，在网上查查这方面的资料就好了，这不又到了2000年吗？已经有网了。

卫向东心里暗暗后悔。

看到卫向东略微尴尬的表情，林本建这才意识到，对方只是个企业家，科技方面纯粹就是个门外汉！”

没准这个浸润式也不知道从哪里看到的资料，觉得好玩而已。

林本建顿时有些失望，刚准备结束这个话题，突然又听到卫向东蹦出一句话：“可以用水呀......水不是很透明吗？”

“用水？水在193纳米波长的折射率是得到1.46，但问题在于157纳米波长下水的折射率是量不出来的，因为不透光......”林本建立刻反驳。

“为啥非要用157纳米？那就用193纳米下的折光呗。”卫向东小心翼翼回答道。

“你不懂，现在的主流是157纳米......”林本建随口回答了一句。

“林先生，你忽略了一点，水的折射率在一般的波长是1.3多。所以在一般波长下用水做浸润式的介质只能改进30%多，但若改成现在可用的最短波长193纳米，1.46的折射率特性，水能把解析度增加46，”

张如京突然插话进来，他是搞芯片制造的，当然对光刻机熟悉的再也不能熟悉，现在听到两人的对话，心里顿时有了启发，插话进来。

“嗯？”

张如京的话，让林本建一愣，思索了一阵突然叫道：“对呀.....我干嘛学他们一样死攻157纳米？”

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