第97章 配制光刻胶【求月票推荐票】 (3-3)

“主体材料必须要尽量减少高吸收元素，引入特殊金属氧化物提高光刻的感光速度，增强体系抗蚀能力，降低光刻胶的膜厚，最终进一步提升分辨率。”

“这次应该没什么问题了。

“只要顺利完成，就能配制出和顶级光刻机相适合的光刻胶。”

2020年1月24日，周五。

除夕夜。

华科院化学实验室内。

此刻徐磊穿着实验操作服，站在工作台旁摆弄着上面的各种精密仪器。

虽说看不到其具体神情如何，但从口中低喃的声音来判断，他这次是胸有成竹。

随后在几名助手的配合下，特殊金属氧化物被引入体系材料中，并在设备的自动运作下，逐渐形成可以直接涂抹在晶圆片上的光刻胶。

不过究竟能否达到想要的效果，成功生产出3纳米规格的芯片，还需要拿到光刻机那边实际测试才行。

至于被称作物理极限的1纳米芯片，因为所需的特殊金属材料还未运送过来，所以暂时还无法生产。

但可以确定的是，这个春节大家虽然都没有回家，却肯定是几十年来最开心兴奋的一天。

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